ATOMETRICS Эллипсометр

ATOMETRICS Эллипсометр — высокоточный оптический измерительный прибор, предназначенный для определения толщины тонких пленок, показателя преломления, коэффициента экстинкции и других оптических параметров материалов. Оборудование широко применяется в микроэлектронике, полупроводниковой промышленности, фотонике, оптоэлектронике, материаловедении и научных исследованиях для контроля качества тонкопленочных структур и анализа свойств покрытий.

Эллипсометрия является одним из наиболее точных и чувствительных методов исследования тонких пленок. Метод основан на анализе изменения поляризации света после его отражения от поверхности исследуемого образца. Благодаря этому прибор позволяет выполнять неразрушающие измерения толщины слоев с нанометровой точностью и определять оптические характеристики однослойных и многослойных покрытий.

Системы ATOMETRICS используются для контроля технологических процессов нанесения оксидных, нитридных, полимерных, металлических, диэлектрических и полупроводниковых пленок. Оборудование применяется при производстве интегральных схем, MEMS-устройств, солнечных элементов, лазерных структур, светодиодов, оптических компонентов и других изделий современной электроники.

Современное программное обеспечение обеспечивает автоматическое моделирование многослойных структур, обработку результатов измерений и формирование отчетов. Высокая точность и скорость анализа позволяют эффективно использовать эллипсометр как в научных исследованиях, так и в производственных линиях контроля качества.

Преимущества:

• высокоточное измерение толщины тонких пленок;
• определение показателя преломления и коэффициента экстинкции;
• неразрушающий метод контроля;
• анализ однослойных и многослойных структур;
• нанометровая точность измерений;
• автоматическое моделирование покрытий;
• применение в микроэлектронике и фотонике;
• высокая скорость получения результатов.

Эллипсометр предназначен для бесконтактного измерения параметров тонких пленок и периодических структур, включая толщину пленок, коэффициент заполнения (duty ratio) и угол наклона боковых стенок. Прибор применяется в полупроводниковой, электронной и оптической промышленности, а также в научно‑исследовательских и метрологических лабораториях.

Эллипсометр реализует измерительный метод на основе анализа изменения поляризации отраженного света. Для определения геометрических и оптических параметров исследуемых структур используется сравнение измеренных оптических параметров с результатами оптического прямого моделирования.

В процессе обработки данных применяются алгоритмы оптимизации Левенберга—Марквардта (LM), методы сопоставления с библиотекой моделей и алгоритмы нейронных сетей, что позволяет извлекать структурные параметры исследуемых объектов с высокой точностью и эффективностью.

Основные измеряемые параметры:

• толщина тонких пленок;
• коэффициент заполнения (duty ratio);
• угол наклона боковых стенок;
• параметры периодических (решетчатых) структур.

Основные особенности и преимущества:

• высокоэффективные и точные измерения;
• бесконтактный метод измерений;
• применение оптического прямого моделирования;
• использование алгоритма Левенберга—Марквардта;
• библиотечное сопоставление моделей;
• применение алгоритмов машинного обучения (нейронные сети);
• высокая воспроизводимость и стабильность результатов.

Области применения:

• полупроводниковая промышленность;
• контроль параметров фотолитографических структур;
• измерение тонких пленок и покрытий;
• прецизионная оптика;
• научно‑исследовательские и метрологические лаборатории;
• производство дисплейных панелей.