ATOMETRICS Прибор для измерения толщины пленок

ATOMETRICS — высокоточный прибор для измерения толщины тонких пленок и покрытий, предназначенный для применения в микроэлектронике, полупроводниковой промышленности, фотонике, оптоэлектронике, материаловедении и научных исследованиях. Оборудование обеспечивает быстрый и неразрушающий контроль параметров тонкопленочных структур, позволяя эффективно контролировать качество технологических процессов и готовой продукции.

Прибор используется для измерения толщины однослойных и многослойных покрытий, нанесенных на кремниевые, стеклянные, сапфировые, кварцевые и другие подложки. Высокая точность измерений позволяет контролировать параметры оксидных, нитридных, полимерных, металлических, диэлектрических и полупроводниковых пленок, применяемых при производстве современных электронных компонентов.

Системы ATOMETRICS используют современные оптические методы анализа, обеспечивающие измерение толщины покрытий без механического контакта с образцом. Это позволяет проводить исследования чувствительных материалов, контролировать процессы нанесения пленок и выполнять оперативный контроль качества на различных этапах производства.

Оборудование широко применяется при изготовлении интегральных схем, MEMS-устройств, светодиодов, лазерных компонентов, фотодетекторов, солнечных элементов и других изделий микроэлектроники. Современное программное обеспечение обеспечивает автоматическую обработку данных, визуализацию результатов и формирование отчетов для производственного и научного использования.

Преимущества:

• высокоточное измерение толщины тонких пленок;
• неразрушающий метод контроля;
• измерение однослойных и многослойных покрытий;
• высокая скорость получения результатов;
• бесконтактный оптический метод измерения;
• автоматизированная обработка данных;
• применение в микроэлектронике и научных исследованиях;
• высокая повторяемость и достоверность результатов.

Прибор для измерения толщины пленок предназначен для бесконтактного высокоточного измерения толщины однослойных и многослойных пленочных структур. Прибор применяется в производственных и лабораторных условиях, в том числе в системах оперативного (онлайн) контроля технологических процессов.

Прибор обеспечивает ультравысокую точность измерений за счет применения алгоритмов точной коррекции погрешностей и высокоразрешающих методов обработки сигналов. Высокая частота выборки на уровне миллисекунд обеспечивает производительность, превышающую традиционные толщиномеры в 2–3 раза, что делает прибор особенно пригодным для использования в поточных и онлайн‑системах контроля.

Прибор поддерживает режим картографирования (Mapping mode), обеспечивающий автоматическое и высокоскоростное измерение распределения толщины по поверхности объекта, а также режимы одноточечных измерений.

Основные функции и характеристики:

• высокоточное измерение толщины пленок;
• измерение многослойных пленочных структур;
• режим картографирования распределения толщины (Mapping);
• автоматический и высокоскоростной режим измерений;
• высокая частота дискретизации (миллисекундный уровень);
• повышенная разрешающая способность за счет коррекции систематических отклонений;
• возможность применения в онлайн‑контроле технологических процессов.

Области применения:

• полупроводниковая промышленность;
• электронные изделия и микроэлектроника;
• производство дисплейных панелей;
• прецизионная оптика и покрытия;
• научно‑исследовательские и метрологические лаборатории;
• системы автоматического контроля качества.